博爾德，科羅拉多州-2020年4月9日。
新的晶圓蝕刻範例展示了如何使用 VSim 來模擬用於微電子的電漿蝕刻室。此範例僅通過對所有物種進行運動處理來證明基本物理，並允許您自定義您的腔室，在整個晶圓上創建一個均勻的鞘層，即使在晶圓邊緣。